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米マイクロン・テクノロジーは、日本と
台湾で導入を計画するEUV(極端紫外線)技術に
関連し、次世代のDRAM製品の生産開始時期に
ついて台湾で2025年、日本では26年とする
計画を表明した。

日本政府の支援を受け、同社が
広島工場に5000億円を充てる
大型投資は専用施設を新設せず、
既存もしくは建設中の施設に
EUV装置を25年に導入する方針だそうです。

日本法人のマイクロンメモリジャパン
(広島県東広島市)本社内で同日、
記者会見を開いた。

サンジェイ・メロートラ社長兼最高経営責任者
(CEO)は「広島の生産拠点は現在も
最先端DRAMを生産している。
EUVの導入は日本初で、今後も重要な
役割を果たす」などと述べたそうです。

本当に残念ですね。
エルピーダメモリが最先端の技術と人材を
持っていたのに、結局、国から潰されて
しまいました。経済産業省です。
日本のどこの銀行も救いませんでした。
民主党政権です。

でも、そのまま亡くならなくて、
マイクロンテクノロジーになったのは、
せめてもの救いです。
設備と人材は活用されています。

ラピダスが成功すればよいですね。
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